好及施
#03 类化妆清洁
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申请/注册号:
5927167
初审日期:
2009-11-13
商标类型:
一般
注册日期:
2010-02-14
申请日期:
2007-03-01
截止日期:
2030-02-13
商标其他信息
是否共有商标
否
初审公告期号
1191
注册公告期号
1203
代理机构
中国商标专利事务所有限公司
申请人名称
帝国制药株式会社
申请人地址
日本***番地
保护的商品
0303 —— 上光剂
0304 —— 研磨剂
商标申请流程
商标续展 核准通知打印发送
2019年11月27日
商标续展 申请收文
2019年10月22日
商标注册申请 打印注册证
2010年03月04日
商标注册申请 打印驳回通知
2009年06月29日
商标注册申请 打印受理通知
2007年07月24日
商标注册申请 申请收文
2007年03月01日