余上空间美学#42 类科技研究等待实质审查
申请/注册号：70499551
初审日期：2023-09-06
商标类型：一般
注册日期：2023-12-07
申请日期：2023-03-28
截止日期：2033-12-06
商标其他信息
保护的商品
4209 —— 工程绘图
4209 —— 为他人研究和开发新产品
4214 —— 材料测试
4216 —— 工业品外观设计
4216 —— 造型（工业品外观设计）
4217 —— 建筑制图
4217 —— 室内装饰设计
4218 —— 服装设计
4220 —— 计算机软件设计
4227 —— 平面美术设计
商标申请流程
商标注册申请 申请收文
2023年03月28日
