自画#42 类科技研究注册公告咨询此标

申请/注册号：44114333

初审日期：2020-10-13

商标类型：一般

注册日期：2021-01-14

申请日期：2020-02-18

截止日期：2031-01-13

商标其他信息

是否共有商标否

初审公告期号1715

注册公告期号1727

代理机构北京华盛九州知识产权代理有限公司

申请人名称本那服饰（上海）有限公司

申请人地址上海***6层

保护的商品

4209 —— 研究和开发新产品

4211 —— 化妆品研究

4212 —— 临床试验

4216 —— 工业品外观设计

4217 —— 室内装饰设计

4218 —— 服装设计

4220 —— 把有形的数据或文件转换成电子媒体

4220 —— 平台即服务（PaaS）

4220 —— 计算机平台的开发

4227 —— 平面美术设计

商标申请流程

商标注册申请 等待驳回复审
2020年09月22日
商标注册申请 驳回通知发文
2020年07月29日
商标注册申请 受理通知书发文
2020年03月17日
商标注册申请 申请收文
2020年02月18日