大尘微影#42 类科技研究咨询此标

申请/注册号：78221930

初审日期：暂无

商标类型：一般

注册日期：暂无

申请日期：2024-04-25

截止日期：暂无

商标其他信息

是否共有商标否

初审公告期号

注册公告期号

代理机构上海创无阻企业管理咨询有限责任公司

申请人名称上海大尘微影半导体科技有限公司

申请人地址中国***二层

保护的商品

4209 —— 半导体设计

4209 —— 光学组件的设计

4209 —— 半导体加工技术研究

4209 —— 技术研究

4214 —— 设备和仪器的功能测试

4220 —— 软件设计和开发

4220 —— 计算机软件测试

4220 —— 计算机软件维护和升级

4220 —— 计算机软件更新

4220 —— 计算机软件研究和开发