久显#01 类化工原料注册
申请/注册号：52961949
初审日期：2021-06-06
商标类型：一般
注册日期：2021-09-07
申请日期：2021-01-13
截止日期：2031-09-06
商标其他信息
保护的商品
0104 —— 光致抗蚀剂
0104 —— 荧光粉
0104 —— 生产印刷电路板用化学涂层
0104 —— 半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0104 —— 印刷电路板制造用蚀刻剂
0104 —— 制造印刷电路板用掩膜化合物
0104 —— 半导体制造用蚀刻剂
0104 —— 工业用化学制剂
0104 —— 制清漆用工业化学品
0110 —— 阻燃剂
商标申请流程
商标注册申请 申请收文
2021年01月13日
商标注册申请 受理通知书发文
2021年02月06日
商标注册申请 注册证发文
2021年10月13日
