氧次方#03 类化妆清洁注册咨询此标

申请/注册号：54033029

初审日期：2021-07-06

商标类型：一般

注册日期：2021-10-07

申请日期：2021-03-04

截止日期：2031-10-06

商标其他信息

是否共有商标否

初审公告期号1750

注册公告期号1762

代理机构厦门尼可商标代理有限公司

申请人名称周源风

申请人地址福建***0号

保护的商品

0301 —— 洗面奶

0302 —— 清洁制剂

0303 —— 抛光制剂

0305 —— 芳香精油

0306 —— 美容面膜

0306 —— 化妆品

0306 —— 香水

0307 —— 牙膏

0308 —— 香

0310 —— 空气芳香剂

商标申请流程

商标注册申请 申请收文
2021年03月04日
商标注册申请 注册证发文
2021年11月10日
商标注册申请 受理通知书发文
2021年03月30日