东为氢源#01 类化工原料注册
申请/注册号：36802916
初审日期：2019-08-06
商标类型：一般
注册日期：2019-11-07
申请日期：2019-03-13
截止日期：2029-11-06
商标其他信息
保护的商品
0101 —— 工业用固态气体
0102 —— 碱
0102 —— 苛性钠（氢氧化钠）
0104 —— 半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0104 —— 制造印刷电路板用掩膜化合物
0106 —— 科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0108 —— 未加工合成树脂
0108 —— 离子交换树脂
0108 —— 离子交换树脂膜（化学制剂）
商标申请流程
商标注册申请 注册证发文
2019年12月27日
商标注册申请 受理通知书发文
2019年03月29日
商标注册申请 申请收文
2019年03月13日
