东为氢源#01 类化工原料注册公告
申请/注册号：36802916
初审日期：2019-08-06
商标类型：一般
注册日期：2019-11-07
申请日期：2019-03-13
截止日期：2029-11-06
商标其他信息
保护的商品
0101 —— 工业用固态气体
0102 —— 碱
0102 —— 苛性钠（氢氧化钠）
0104 —— 半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0104 —— 制造印刷电路板用掩膜化合物
0106 —— 科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0108 —— 未加工合成树脂
0108 —— 离子交换树脂
0108 —— 离子交换树脂膜（化学制剂）
商标申请流程
商标注册申请 受理通知书发文
2019年03月29日
商标注册申请 申请收文
2019年03月13日
