伟好#03 类化妆清洁注册咨询此标
申请/注册号:10737204
初审日期:2013-03-13
商标类型:一般
注册日期:2013-06-14
申请日期:2012-04-09
截止日期:2023-06-13
商标其他信息
是否共有商标否
初审公告期号1351
注册公告期号1363
申请人名称林伟好
申请人地址浙江***9号
保护的商品
0303 —— 抛光用纸
0303 —— 抛光蜡
0303 —— 抛光制剂
0303 —— 抛光乳膏
0304 —— 砂纸
0304 —— 砂布
0304 —— 研磨材料
0304 —— 磨光粉
0304 —— 研磨用刚玉砂
商标申请流程
商标注册申请 注册申请初步审定
2013-02-04